Jan 24, 2024 Tinggalkan pesan

Bidang aplikasi target sputtering(2)

Sasaran Penyemprotan Tungsten
 

3. Bahan target untuk sel surya

(1) Bahan target yang umum digunakan: Aluminium/tembaga/molibdenum/kromium/ITO/Ta dan bahan target lainnya umumnya digunakan dalam sel surya.

(2) Penggunaan: Terutama digunakan dalam "lapisan jendela", lapisan penghalang, elektroda dan film konduktif, dll.

(3) Persyaratan kinerja: persyaratan teknis tinggi dan berbagai aplikasi.

 

 

80 W Sputtering Targets

Target Penyemprotan W

 

4. Bahan target untuk penyimpanan informasi

(1) Bahan target yang umum digunakan: bahan target yang umum digunakan untuk penyimpanan informasi meliputi kobalt/nikel/paduan besi/kromium/telurium/selenium dan bahan lainnya.

(2) Penggunaan: Jenis target ini terutama digunakan untuk kepala magnetik, lapisan tengah, dan lapisan bawah drive optik dan cakram optik.

(3) Persyaratan kinerja: Ada persyaratan yang lebih tinggi untuk kepadatan penyimpanan tinggi dan kecepatan transmisi tinggi.

5. Bahan target untuk modifikasi alat

(1) Bahan target yang umum digunakan: paduan titanium/zirkonium/kromium aluminium dan bahan target lainnya yang umum digunakan untuk modifikasi alat.

(2)Penggunaan: Biasanya digunakan untuk penguatan permukaan.

(3) Persyaratan kinerja: Persyaratan kinerja tinggi dan umur pemakaian yang panjang.

 

80 Tungsten Sputtering Target factpry

WTi

6. Bahan target untuk perangkat elektronik

(1) Bahan target yang umum digunakan: bahan target paduan aluminium/silisida yang umum digunakan dalam perangkat elektronik

(2) Penggunaan: Umumnya digunakan pada resistor dan kapasitor film tipis.

(3) Persyaratan kinerja: ukuran kecil, stabilitas, dan koefisien resistansi suhu kecil.

Kirim permintaan

Rumah

Telepon

Email

Permintaan